1、去離子水設備簡介：

　　去離子水設備是用于滿足各個行業(yè)使用去離子水需求，多用于電鍍，新材料，鍍膜，精細化工，油墨，超純材料和超純試劑的生產和清洗、電子產品的生產和清洗、電池產品的生產、半導體產品的生產和清洗、電路板的生產和清洗、其他高科技精細產品的生產等行業(yè)，整個系統(tǒng)是由反滲透系統(tǒng)、EDI或者混床系統(tǒng)、提純系統(tǒng)組合而成。

　　2、去離子水設備產水標準：

　　電導率：0.056-10us/cm

　　產水量：0.25-50噸/小時

　　3、去離子水設備特點

　　整機采用模塊化的生產，結構合理緊湊，占地面積小;具有完善的控制系統(tǒng)，水滿停機，缺水保護，自動清洗，再生增壓等功能。

　　另外可選配水質超標排放或者超標報警等功能。

　　4、去離子水工藝選擇

　　工藝一：預處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點

　　工藝二：預處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點

　　工藝三：預處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→用水點

　　工藝四：預處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→用水點

　　工藝五：預處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→EDI→提純系統(tǒng)→用水點

　　工藝六：預處理系統(tǒng)→二級反滲透系統(tǒng)→混床→提純系統(tǒng)→用水點

　　工藝七：預處理系統(tǒng)→一級反滲透系統(tǒng)→用水點